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    Nikalyte NL-UHV磁控濺射儀

    簡要描述:Nikalyte NL-UHV磁控濺射儀能夠在超真空中生成和沉積納米顆粒,以在樣品上創(chuàng)建功能化表面。 可以通過精確控制納米顆粒的尺寸、組成和結(jié)構(gòu)來定制納米顆粒涂層的特性,從而實現(xiàn)定制化特性。

    • 產(chǎn)品型號:
    • 廠商性質(zhì):代理商
    • 更新時間:2025-01-26
    • 訪  問  量:611

    詳細(xì)介紹

    品牌其他品牌產(chǎn)地類別國產(chǎn)
    應(yīng)用領(lǐng)域能源,電子/電池,電氣

    NL-UHV能夠在超真空中生成和沉積納米顆粒,以在樣品上創(chuàng)建功能化表面。 可以通過精確控制納米顆粒的尺寸、組成和結(jié)構(gòu)來定制納米顆粒涂層的特性,從而實現(xiàn)定制化特性。

    Nikalyte NL-UHV磁控濺射儀

    NL-UHV儀器允許將超純納米顆粒直接沉積在各種基底和材料上。可以調(diào)整膜的密度,并且涂層能夠很好地附著在樣品表面。 NL-UHV有多種配置可供選擇,包括單個1英寸和2英寸源,以及三重1英寸源NL-DX3,后者允許單獨或作為合金沉積多達三種材料。 NL-QMS質(zhì)量過濾器提供了對納米顆粒沉積的高級控制,允許實時按質(zhì)量或直徑掃描或過濾納米顆粒。 NL-QMS通過用戶友好的WindowsTM軟件操作,為沉積過程提供了直觀的控制。


    介紹超真空-合金納米顆粒沉積 Nikalyte NL-UHV,合金納米顆粒沉積儀器系列,能夠在超真空中將納米顆粒生成并沉積到您的樣品上,以創(chuàng)建功能化表面。通過精確控制納米顆粒的尺寸、組成和結(jié)構(gòu),可以定制納米顆粒涂層的特性。

    與化學(xué)技術(shù)不同,NL-UHV系列儀器允許將超純納米顆粒直接沉積在各種基底和材料上。可以調(diào)整膜的密度,且膜本身可以高度附著在樣品表面。


    Nikalyte NL-UHV磁控濺射儀主要特點:

    • 可烘烤至 250°C(無需移除磁鐵)

    • 高達 40% 的出色靶材利用率

    • 用于磁性材料的標(biāo)準(zhǔn)和高強度磁體

    • 平衡或不平衡磁體配置的選項

    • 簡單的卡口夾,便于直接安裝目標(biāo)

    • 包括手動或氣動控制快門之間的選擇

    • 可用的濺射靶尺寸:1 英寸、2 英寸和 3 英寸

    • 用戶友好的設(shè)計,帶有易于更換的磁鐵

    • 可定制的真空長度

    • 兼容      DCRF、脈沖直流(單極或雙極)和      HiPIMS 電源
           
           

    Nikalyte NL-UHV磁控濺射儀規(guī)格

    濺射

    1.0″

    2.0″

    3.0″


    安裝法蘭 (CF O.D.

    4.5 英寸

    6.0 英寸

    6.0 英寸


    114 毫米

    152   毫米

    152   毫米


    NW63CF

    NW100CF

    NW100CF


    兼容 UHV

    是的,可在高達 250°C 的溫度下烘烤(無需移除磁鐵)


    真空長度

    200 毫米或 300 毫米可根據(jù)要求提供特殊長度


    源頭的真空直徑

    45 毫米

    72 毫米

    93 毫米


    目標(biāo)大小

    1.0 英寸(25 毫米)

    2.0 英寸(50 毫米)

    3.0 英寸(75 毫米)


    目標(biāo)物厚度(使用標(biāo)準(zhǔn)磁鐵的非磁性目標(biāo)物)

    最大 3 毫米

    最大 3 毫米

    最大 3 毫米



    目標(biāo)物厚度(帶有強磁鐵的非磁性目標(biāo)物)

    不適用

    最大 7 毫米

    最大 7 毫米



    目標(biāo)物厚度(帶有強磁鐵的磁性目標(biāo)物)

    不可用

    最大 1 毫米

    最大 2 毫米


    0.4mm,帶標(biāo)準(zhǔn)



    磁性元件


    磁鐵

    對于磁性或非磁性材料,平衡或不平衡,用戶可以輕松


    更換


    電源

    直流、射頻、脈沖直流(單極或雙極)、HiPIMS


    快門

    一體式手動或可選氣動操作


    冷卻

    最小水流量為 1 I/min




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